半導(dǎo)體芯片制造對(duì)腔體內(nèi)部干燥環(huán)境有著嚴(yán)苛要求，光刻機(jī)、CVD 化學(xué)沉積設(shè)備的真空腔體全程通入高純氮?dú)馀c各類(lèi)特種工藝氣體，氣流內(nèi)微量水汽會(huì)直接接觸晶圓表層，引發(fā)硅片氧化、金屬線(xiàn)路腐蝕，衍生圖形偏移、薄膜分層等各類(lèi)制程缺陷，直接影響芯片生產(chǎn)穩(wěn)定性。想要持續(xù)管控腔體氣源微量水分，穩(wěn)定生產(chǎn)流程，美國(guó) DewTech390 進(jìn)口冷鏡露點(diǎn)儀成為產(chǎn)線(xiàn)配套監(jiān)測(cè)的常用設(shè)備。

美國(guó) DewTech390 進(jìn)口冷鏡露點(diǎn)儀依托三級(jí)珀耳帖制冷冷鏡傳感結(jié)構(gòu)，搭配輔助低溫制冷系統(tǒng)，測(cè)量區(qū)間覆蓋 - 90℃至 + 20℃露點(diǎn) / 霜點(diǎn)，能夠適配半導(dǎo)體產(chǎn)線(xiàn) - 70℃至 - 90℃的超低露點(diǎn)監(jiān)測(cè)需求，可持續(xù)捕捉高純氮?dú)狻㈦娮犹胤N氣體中 ppmv 級(jí)水分波動(dòng)。不同于間接測(cè)算類(lèi)檢測(cè)設(shè)備，美國(guó) DewTech390 進(jìn)口冷鏡露點(diǎn)儀采用基準(zhǔn)式鏡面冷凝檢測(cè)原理，測(cè)量數(shù)據(jù)具備良好穩(wěn)定性，設(shè)備自帶鏡面污染物自動(dòng)校正、開(kāi)機(jī)光學(xué)平衡功能，面對(duì)光刻膠揮發(fā)物、沉積副產(chǎn)物長(zhǎng)期污染工況，也能維持穩(wěn)定檢測(cè)輸出，適配產(chǎn)線(xiàn) 7×24 小時(shí)不間斷監(jiān)測(cè)需求。

美國(guó) DewTech390 進(jìn)口冷鏡露點(diǎn)儀配備多類(lèi)型模擬量與 RS232 串行輸出接口，露點(diǎn)、壓力、水分濃度等數(shù)據(jù)可同步傳輸至產(chǎn)線(xiàn)中控系統(tǒng)，便于車(chē)間統(tǒng)一記錄與溯源；設(shè)備支持壓力補(bǔ)償功能，能夠抵消真空腔體壓力波動(dòng)帶來(lái)的檢測(cè)偏差，采樣流量區(qū)間 0.25 至 2.4 升 / 分鐘，適配半導(dǎo)體高純氣低流速采樣規(guī)范。整機(jī)擁有 ISO 體系相關(guān)認(rèn)證，附帶 NIST 可追溯校準(zhǔn)證書(shū)，測(cè)量數(shù)據(jù)可用于車(chē)間計(jì)量臺(tái)賬歸檔，滿(mǎn)足半導(dǎo)體行業(yè)規(guī)范化管控要求。

整機(jī)支持臺(tái)式擺放與 19 英寸機(jī)架兩種安裝形式，前置鏡面檢測(cè)探頭便于日常清潔維護(hù)，無(wú)需頻繁停機(jī)校準(zhǔn)，降低產(chǎn)線(xiàn)運(yùn)維負(fù)擔(dān)。從前端高純氣總管到光刻機(jī)、CVD 設(shè)備末端腔體，美國(guó) DewTech390 進(jìn)口冷鏡露點(diǎn)儀搭建起完整的低露點(diǎn)監(jiān)測(cè)網(wǎng)絡(luò)，持續(xù)把控工藝氣體干燥度，減少水汽帶來(lái)的各類(lèi)制程損耗，為半導(dǎo)體精密生產(chǎn)提供可靠的數(shù)據(jù)支撐。